ASML財務長：中國芯片製造技術仍落後多年
【大紀元2025年01月31日訊】（大紀元記者夏雨綜合報導）週四（1月30日），荷蘭光刻機製造商阿斯麥（ASML Holding NV）一位高管表示，ASML的芯片製造技術遠超中方，中國競爭對手仍落後多年。
彭博社報導，ASML首席財務官羅傑‧達森（Roger Dassen）在位於荷蘭費爾德霍芬的公司總部受訪表示，ASML芯片製造技術遠遠領先於中國競爭對手。
「我們的技術非常先進，我們花了很多年才達到今天的水平。」他說。
中共雖然投入巨資發展芯片技術，中國公司在製造最先進芯片和芯片製造所需設備方面仍然落後。ASML壟斷了尖端光刻機市場。這些光刻機是世界上各大半導體公司生產先進芯片的必須工具，生產包括iPhone、英偉達AI加速器等所有產品所需的芯片。
去年12月，ASML首席執行官克里斯托夫‧富凱（Christophe Fouquet）接受荷蘭《商務日報》（NRC Handelsblad）專訪時表示，因為中國公司無法獲得尖端EUV光刻工具，中國芯片製造技術仍落後英特爾、台積電和三星等行業巨頭10到15年。眾所周知，即使擁有一流DUV工具，中芯國際等芯片製造商也無法以經濟高效方式與台積電的工藝技術相媲美。
「通過禁止出口EUV，中國（中共芯片技術）將落後西方10到15年。」富凱說，「這確實有影響。」
ASML在全球芯片供應鏈中占據重要地位，世界上幾乎90%的芯片，都是由ASML曝光系統生產。在半導體製造行業，深紫外（DUV）曝光機，可以用於製造7納米及以上製程的芯片，涵蓋了大部分數字芯片和幾乎所有的模擬芯片。
因AI芯片需求旺盛，ASML最新財報成績亮麗。去年第四季營收達92.6億歐元，優於市場預估的90.7億歐元；淨利為26.9億歐元，也高於分析師所預測的26.4億歐元。新增訂單增長169%至70.9億歐元，遠超出市場預期的39.9億歐元，其中極紫外光（EUV）微影設備訂單達到30億歐元。
責任編輯：葉紫微#